【商品规格】：TG2U

　　【商品简介】：

　　产品特点：

　　TG2U型光刻机是制造中，大规模集成电路，传感器，表面波元件，磁泡，微波和CCD等器件的重要光刻设备。

　　欢迎您联系我们获得光刻机(TG2U型)的更多信息。

　　【备　　注】：

　　TG2U型光刻机主要技术参数见下表：

　　项目

　　参数

　　适用的掩模尺寸

　　a.100X100X2-3mm;b.75X75X2—3mm;c.63X63X2—3(选购);

　　适用的硅片尺寸

　　φ35—75mm

　　光刻图形线条

　　3-4μm, 最细可达2μm

　　掩模与硅片之间的相对位移范围

　　X/Y±2.5mm,(族转) ±6°

　　承片台(硅片)绕主轴旋转

　　粗调360度,可微调

　　承片工作台综合移动范围

　　X,Y合成φ75mm

　　承片台的球座平面至掩模板面升降

　　0—7.5mm

　　曝光灯源

　　GCQ200W超高压汞灯，曝光波长，300―436nm

　　曝光系统能量不低于

　　7mw

　　曝光系统的照度均匀度在φ75mm范围内

　　±5%

　　显微镜的照明波长

　　≈545nm

　　曝光时间控制范围

　　0.1秒—99分

　　双目显微镜的放大倍数

　　a.目镜共二种:10X,16X;b.平视场物镜共三种:6X,9X,15X;c.合成放大倍率:60X—240X;

　　真空接触压力

　　≥0.7kgf

　　装箱尺寸

　　1000X850X980mm(2只)

　　装箱重量

　　200kg

　　注：用户有何特殊要求可协商。